cover

CuO Filmlerinin Yapısal, Morfolojik ve Optik Özelliklerine Al Doping Etkisi
Şu kitabın bölümü: Çakoğlu, A. H. & Sancar, M. R. (eds.) 2023. Mühendislik ve Uygulamalı Bilimlere Çok Yönlü Yaklaşımlar: Malzemeler ve Yöntemler.

Şilan Baturay
Dicle Üniversitesi
Canan Aytuğ Ava

Özet

Bu çalışmada, metal katkılı CuO nanoyapılı filmler, çözelti içinde farklı katkılama konsantrasyonlarında (%0, %2 ve %4) dönel kaplama yöntemiyle soda kireç camı (SLG) altlık üzerine biriktirildi. Al katkılama ile birlikte bakır oksit filmler için X-ışını kırınım (XRD) modelleri, filmlerin polikristal yapıya sahip olduğunu ve (-111) ve (200) yönlerinde tercihli büyümeye sahip olduğunu göstermiştir. (-111) düzleminin hesaplanan dislokasyon yoğunluk değeri (200) için 3,7 x 1014 ve 5,83 x 1014 m-2 ve 83,7 x 1014 ve 50,6 x 1014 m-2 arasında, Al katkı içeriği ile yapısal parametrelerin genişlemesi nedeniyle değiştirilmiştir. Yüzey morfolojisini araştırmak için bir atomik kuvvet mikroskobu (AFM) kullandık. AFM'den elde edilen sonuçlar, vadi bölgesinde numunelerin nispeten pürüzsüz olduğunu, tepe bölgesinde ise birçok kristal benzeri yapının görüldüğünü ortaya koydu. Al katkılı CuO filmlerin soğurma, enerji bant aralığı ve geçirgenlik değerlerini incelemek için 273 K sıcaklıkta 1100-300 nm aralığında UV-Vis ölçüm sistemi kullandık. UV-Vis ve UV ışığı için yüksek afiniteye sahiptir. Absorpsiyon değerindeki değişimin numunelerin farklı kristal yapısından kaynaklandığı söylenebilir. Al:CuO ince filmlerin enerji bant aralığı değeri 1,98 ile 2,07 eV arasında değişmiştir.

cover

Kaynakça Gösterimi

Baturay, Ş. & Aytuğ Ava, C. (2023). CuO Filmlerinin Yapısal, Morfolojik ve Optik Özelliklerine Al Doping Etkisi. In: Çakoğlu, A. H. & Sancar, M. R. (eds.), Mühendislik ve Uygulamalı Bilimlere Çok Yönlü Yaklaşımlar: Malzemeler ve Yöntemler (pp. 47-60). Özgür Yayınları. DOI: https://doi.org/10.58830/ozgur.pub50.c45

Lisans

Creative Commons License

Bu çalışma Creative Commons Attribution 4.0 International License ile lisanslanmıştır.

Yayın Tarihi

2 March 2023

DOI